近日，中微公司推出自主研發(fā)的12英寸低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)設(shè)備Preforma Uniflex™ CW。

Preforma Uniflex™ CW可靈活配置多達(dá)五個雙反應(yīng)臺反應(yīng)腔（十個反應(yīng)臺），每個反應(yīng)腔可以同時加工兩片晶圓，在保證較低的生產(chǎn)成本和化學(xué)品消耗的同時，實(shí)現(xiàn)更高的生產(chǎn)效率。

該設(shè)備配備了完全擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的優(yōu)化混氣方案及加熱臺, 具有優(yōu)秀的薄膜均一性、填充能力和工藝調(diào)節(jié)靈活性，對于彎曲度較大的晶圓，它也具備良好的工藝處理能力。并可以滿足先進(jìn)邏輯器件、DRAM和3D NAND中接觸孔以及金屬鎢線的填充應(yīng)用需求。

中微公司集團(tuán)副總裁、LPCVD 產(chǎn)品部和公共平臺工程部總經(jīng)理陶珩表示，自該款LPCVD設(shè)備研發(fā)立項以來，僅用不到半年時間，公司就完成了產(chǎn)品設(shè)計、生產(chǎn)樣機(jī)開發(fā)和實(shí)驗室評價，目前已順利導(dǎo)入客戶端進(jìn)行生產(chǎn)線核準(zhǔn)。

中微公司開發(fā)的等離子體刻蝕設(shè)備和化學(xué)薄膜設(shè)備是制造各種微觀器件的關(guān)鍵設(shè)備，可加工微米級和納米級的各種器件。據(jù)悉，中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于國際一線客戶先進(jìn)工藝的眾多刻蝕應(yīng)用，中微公司開發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產(chǎn)的MOCVD設(shè)備已在客戶生產(chǎn)線上投入量產(chǎn)，目前已在全球氮化鎵基LED MOCVD設(shè)備市場占據(jù)領(lǐng)先地位。